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3%NaCl溶液中铜缓蚀剂TTA的光电化学和电子能谱研究
【作者】 杨迈之； 郭沁林； 蔡生民； 童汝亭； 郝彦忠； 任聚杰； 周国定；
【机构】 北京大学化学系； 河北师范大学化学系； 上海电力学院动力工程系；
【摘要】 本文采用测开路光电压(Voph)的方法,检测铜在3%NaCl溶液中的腐蚀行为及加入缓蚀剂TTA的缓蚀效果的浓度效应,并辅之以表面光电子能谱进行研究.实验结果表明当TTA浓度小于1.5×10-5时,反而加速Cl-侵蚀.当TTA浓度大于1.5×10-5时,TTA才起到缓蚀作用.随TTA浓度继续增加,TTA保护膜变得更致密和更厚.当TTA浓度大于5×10-5时,膜厚不再增加.测量开路光电压是一种现场的、无损坏的、灵敏的监测铜被氯离子侵蚀和评价铜缓蚀剂效果的新方法.
【基金】 自然科学基金;教委优秀年轻教师基金项目
- 【会议录名称】 第八届全国缓蚀剂学术讨论会论文集
- 【会议名称】第八届全国缓蚀剂学术讨论及应用技术经验交流会
- 【会议时间】1993-11
- 【会议地点】中国湖北武汉
- 【分类号】TG174.42
- 【主办单位】中国腐蚀与防护学会缓蚀剂专业委员会