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化学气相沉积GaN半导体薄膜的研究
【机构】 陕西科技大学材料科学与工程学院;
【摘要】 以Ga2O3和NH3为源材料,采用化学气相沉积法在Si(111)基板表面制备了Ga N半导体薄膜。采用XRD和AFM等分析测试手段对薄膜的相组成和显微结构进行了表征。采用四探针法对薄膜的电导率进行了测量。
- 【会议录名称】 第十五届全国高技术陶瓷学术年会摘要集
- 【会议名称】第十五届全国高技术陶瓷学术年会
- 【会议时间】2008-09-21
- 【会议地点】中国辽宁沈阳
- 【分类号】TN304.055
- 【主办单位】中国硅酸盐学会特种陶瓷分会