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碳界面层制备工艺对SiC_f/SiC复合材料力学性能的影响

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【作者】 于新民周万城郑文景赵锴罗发

【机构】 西北工业大学凝固技术国家重点实验室

【摘要】 采用低压化学气相沉积(LPCVD)法制备了具有热解炭界面层的2.5维连续碳化硅纤维增韧的碳化硅(SiC_f/SiC)复合材料。在相同的LPCVD工艺条件下进行Si C基体的制备,纤维体积分数为48%,气孔率

  • 【会议录名称】 第十五届全国高技术陶瓷学术年会摘要集
  • 【会议名称】第十五届全国高技术陶瓷学术年会
  • 【会议时间】2008-09-21
  • 【会议地点】中国辽宁沈阳
  • 【分类号】TB332
  • 【主办单位】中国硅酸盐学会特种陶瓷分会
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