【作者】 冯卫； 陈秋云； 朱燮刚； 罗丽珠； 赖新春；

【Author】 Wei Feng;Qiuyun Chen;Xiegang Zhu;Lizhu Luo;Xinchun Lai;Science and Technology on Surface Physics and Chemistry Laboratory;

【机构】 表面物理与化学重点实验室；

【摘要】 利用分子束外延方法（MBE）,在W（110）单晶衬底成功外延生长了密堆的Ce单晶薄膜;然后在超高真空中控制Ce单晶薄膜的氧气暴露剂量,并控制退火温度,使表面生成不同结构的有序氧化物薄膜,并分析它们的价带变化。在整个氧化退火过程中,我们利用X射线光电子能谱（XPS）监测表面的化学状态,利用低温扫描隧道显微镜（LT-STM）分析表面形貌的变化,利用低能电子衍射技术（LEED）分析表面结构,利用角分辨光电子能谱（ARPES）分析表面的价带谱。通过一系列实验控制氧气暴露量和退火温度,先后成功制备了六角相Ce₂O₃（0001）、Ce₇O₁₂、Ce₁₉O₃₄（001）和四方相Ce₂O₃（001）等有序薄膜,并对比了这些氧化物由于氧配位数变化而导致的价带变化。更多还原

【Abstract】 By using molecular beam epitaxy（MBE）, the single crystal Ce films were grown on W（110） substrate. And then the films were oxidized with special oxygen partial pressure under special annealing temperature in ultra-high vacuum chamber, ordered Cerium oxide films with different structures formed. Throughout the oxidizing process, we use X-ray photoelectron spectroscopy（XPS） to monitor the chemical valence of surface, use low-temperature scanning tunneling microscope（LT-STM） to analyze the surface topography, use low-energy electron diffraction（LEED） to obtain the surface structure, use angle-resolved photoelectron spectroscopy（ARPES） to study the valence band. Herein, we successfully prepared hexagonal Ce₂O₃（0001）, Ce₇O₁₂, Ce₁₉O₃₄ and cubic Ce₂O₃（001） films, and then studied the valence band of these oxides.更多还原