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一种测量光电器件膜厚的新方法——X光能谱法
【机构】 华中理工大学；
【摘要】 <正> 光电薄膜器件的膜厚是一个重要性能参数,通常用干涉仪和椭圆偏振仪测量,但它受到了光波波长和透明度的限制。根据电子光学原理,应用现代X光能谱技术,在MonteCsrlo电子轨迹法推导的数学模型和函数的基
- 【会议录名称】 第四届全国光电技术与系统学术会议论文集
- 【会议名称】第四届全国光电技术与系统学术会议
- 【会议时间】1991-05-13
- 【会议地点】中国安徽合肥
- 【分类号】TN15
- 【主办单位】中国科技大学、安徽省光学学会