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掺He纳米晶Cu/W多层膜中的He扩散行为研究
【作者】 王玲； 邓爱红； 王康； 谢莎； 王勇； 石云龙；
【机构】 四川大学原子核科学与技术研究所辐射物理及技术教育部重点实验室； 东华理工大学核工程与地球物理学院； 四川大学物理科学与技术学院物理系；
【摘要】 <正>多层膜以其优异的物理、化学及力学性能越来越受到人们的关注,尤其是其内部存在的大量晶界和膜界,能够充分的吸纳He并有效吸收和淹没因辐照产生的大量缺陷,使其具有较强的储He及耐He离子辐照损伤能力。本文利用射频磁控溅射方法,在纯Ar及Ar/He混合气氛下制备了纳米晶Cu/W多层膜;并利用慢正电子束分析(SPBA)技术对Cu/W多层膜样品的缺陷
- 【会议录名称】 第十二届全国正电子谱学会议论文集
- 【会议名称】第十二届全国正电子谱学会议
- 【会议时间】2014-07-09
- 【会议地点】中国山东烟台
- 【分类号】O484
- 【主办单位】中国核物理学会正电子谱学专业委员会、北京航空航天大学物理科学与核能工程学院、烟台大学光电信息技术学院、中国科学院核辐射与核能技术重点实验室