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Al掺杂对SmCo5/Cu薄膜磁性能的影响

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【作者】 程伟明戴亦凡薛兴昊惠亚娟缪向水

【机构】 华中科技大学光学与电子信息学院华中科技大学武汉光电国家实验室

【摘要】 SmCo5薄膜具有极高的单轴磁晶各向异性,能有效克服当前垂直磁记录介质所面临的超顺磁效应问题,是未来超高密度磁记录介质的候选材料。对SmCo5的Co位掺杂非磁性元素可以有效降低晶粒尺寸、隔离晶粒从而降低SmCo晶粒间的交换作用,进而提升SmCo5薄膜的磁性能。本文在优化底层材料与溅射工艺参数的基础上,制备了一系列不同Al掺杂量的Sm(Co,Al)5薄膜,并研究了薄膜磁性能随Al掺杂比例的变化关系。结果表明当Al掺杂比例达到19.1%时,即元素组成接近于SmCo4Al时,薄膜垂直矫顽力最高可达到3740Oe。

【关键词】 SmCo5薄膜底层溅射工艺Al掺杂矫顽力
  • 【会议录名称】 第八届中国功能材料及其应用学术会议摘要
  • 【会议名称】第八届中国功能材料及其应用学术会议
  • 【会议时间】2013-08-23
  • 【会议地点】中国黑龙江哈尔滨
  • 【分类号】TB383.2
  • 【主办单位】中国仪表功能材料学会、重庆材料研究院、哈尔滨工业大学、《功能材料》期刊社
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