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原子层沉积技术及应用
【作者】 夏洋；
【机构】 中国科学院微电子研究所；
【摘要】 <正>原子层沉积技术具有卓越的保形性、薄膜生长精确可控、沉积温度较低等特性,是材料表面改性以及制备复杂纳米结构材料的关键技术。自行开发了热型和等离子体增强型原子层沉积设备,利用原子层沉积技术生长了多种薄膜材料,包括氧化铪、氧化铝、氧化锌、氮化铝等,对材料的生长特性、成分、结构与性能进行了详细的研究,并研究了原子层沉积薄膜对应用。
- 【会议录名称】 第八届中国功能材料及其应用学术会议摘要
- 【会议名称】第八届中国功能材料及其应用学术会议
- 【会议时间】2013-08-23
- 【会议地点】中国黑龙江哈尔滨
- 【分类号】TB306
- 【主办单位】中国仪表功能材料学会、重庆材料研究院、哈尔滨工业大学、《功能材料》期刊社