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脉冲偏压电弧离子镀制备Cr-O薄膜的相结构及光学性能研究
【机构】 大连理工大学三束材料改性教育部重点实验室； 辽宁师范大学物理与电子技术学院；
【摘要】 用脉冲偏压电弧离子镀技术在石英玻璃及单晶硅(111)基片上制备了均匀透明Cr-O薄膜.本文研究偏压幅值(0~500V)对薄膜表面形貌、相结构、硬度和光学性能等影响.利用扫描电镜(SEM)观察膜层表面形貌,X射线衍射仪(XRD)观测膜层相结构,X射线光电子能谱仪(XPS)观测膜层成分与相结构,纳米压痕仪测材料硬度与弹性模量,包络线法拟合材料光学参数.结果研究表明:随着脉冲偏压幅值的升高,薄膜表面粗糙度先减小后升高;薄膜相结构表现出Cr2O3(104)、(116)面择优生长转变为CrO(311)、(440)面择优生长;硬度显示先上升后下降趋势,且负偏压为300V时,硬度达到最大值24.4GPa;薄膜吸收边表现为先红移后蓝移,测得最大光学帯隙Eg为1.88eV.
- 【会议录名称】 第十届全国表面工程大会暨第六届全国青年表面工程论坛论文摘要集（一）
- 【会议名称】第十届全国表面工程大会暨第六届全国青年表面工程论坛
- 【会议时间】2014-10-28
- 【会议地点】中国湖北武汉
- 【分类号】TQ153
- 【主办单位】中国机械工程学会表面工程分会、中国表面工程协会