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铝合金微弧氧化涂层的电化学辅助硅烷化处理

Electrochemical assisted silanization of microarc oxidation film on Al alloy

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【作者】 窦宝捷王艳秋张涛邵亚薇孟国哲

【Author】 DouBaojie;Wang Yanqiu;Zhang Tao;ShaoYawei;Meng Guozhe;Laboratory of Corrosion and Protection,Harbin Engineering Univ.;

【机构】 哈尔滨工程大学腐蚀与防护实验室

【摘要】 <正>微弧氧化涂层具有优异的耐磨、耐蚀性能,并且与基体之间的结合力较强,因此具有良好的应用前景。由于微弧氧化过程产生火花放电,涂层内部会残留放电通道,在腐蚀性环境下,这些通道成为腐蚀介质进入基体材料与涂层界面的途径,限制了微弧氧化涂层在腐蚀环境下的应用。通过调节微弧氧化电参数及溶液组分只能尽可以减少缺陷数量,而不能从根本上消除缺陷,因此对微弧氧化涂层缺陷进行有效封闭至关重要[1]。

  • 【会议录名称】 2014年全国腐蚀电化学及测试方法学术交流会摘要集
  • 【会议名称】2014年全国腐蚀电化学及测试方法学术交流会
  • 【会议时间】2014-07-21
  • 【会议地点】中国黑龙江哈尔滨
  • 【分类号】TG174.4
  • 【主办单位】中国腐蚀与防护学会腐蚀电化学及测试方法专业委员会
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