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氩气氮气比例对TaN／NbN纳米多层膜结构与性能的影响
【作者】 张学华； 曹猛； 杨瑾； 刘桐； 王明霞； 李德军；
【机构】 天津师范大学物理与电子信息学院；
【摘要】 本研究采用射频磁控溅射系统,以TaN和NbN作为体材料,制备了一系列TaN／NbN纳米多层膜。通过XRD,纳米力学测试系统分析了该体系合成中Ar／N2气体比例对多层膜结构与机械性能的影响。结果表明,多层膜的纳米硬度值普遍高于两种个体材料混合相的值;当FAR:FN2=10时TaN的(110) 峰加强,TaN的晶体结构以六方结构为主,NbN的晶体结构以面心立方结构为主,此时,多层膜体系的硬度、应力、弹性模量以及膜基结合性能均达到最佳效果(最大硬度为30GPa),摩擦磨损实验表明,氩氮比为10:1的TaN／NbN多层膜较其他氩氮比的多层膜耐磨性更好,不易发生破损,适合实际应用。
【关键词】 射频磁控溅射；
TaN／NbN多层膜；
Ar／N2气体比例；
【基金】 天津市应用基础研究重要项目(043801011);国家自然科学基金(50472026)
- 【会议录名称】 中国真空学会2006年学术会议论文摘要集
- 【会议名称】中国真空学会2006年学术会议
- 【会议时间】2006-10
- 【会议地点】中国陕西西安
- 【分类号】TB383.1
- 【主办单位】中国真空学会