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非平衡磁控溅射制备氮化硅薄膜及其性能研究
【机构】 西南交通大学材料科学与工程学院； 西南交通大学材料先进技术教育部重点实验室；
【摘要】 <正>氮化硅薄膜是具有优良的机械性能、热稳定性能、光电性能、绝缘耐压性能、以及钝化性能等, 不仅在光电子、微电子等大规模集成电路和半导体器件制造中有着广泛的应用,而且在机械行业也有着广阔的应用前景。本文采用非平衡磁控溅射技术,在钛合金(Ti6Al4V)表面沉积氮化硅薄膜。通过改变氮气和氩
- 【会议录名称】 中国真空学会2006年学术会议论文摘要集
- 【会议名称】中国真空学会2006年学术会议
- 【会议时间】2006-10
- 【会议地点】中国陕西西安
- 【分类号】TB383.2
- 【主办单位】中国真空学会