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IBS沉积SmFe超磁致伸缩薄膜及其低场磁敏性
【机构】 福州大学材料科学与工程学院；
【摘要】 本文采用离子束溅射(IBS)技术和铸造合金靶材,在水冷衬底上制备SmFe超磁致伸缩非晶薄膜,研究了溅射工艺参数、衬底状态、薄膜应力以及真空退火处理对SmFe超磁致伸缩功能膜的饱和及低场磁致伸缩性能的影响。结果表明,在设定的溅射方位范围内,可获得表面平整光滑、组织致密、与衬底结合良好的非晶态SmFe膜材;成膜生长速率随水平溅射方位角的增加而增大, 而沿垂直溅射方位上的生长速率基本保持一致;对于轧制成型的金属基片材料,当衬底长轴沿不同的方向取向时,溅射沉积所致膜材的磁伸性能有较大的差异;真空退火处理超过改变SmFe薄膜的微结构、应力状态及磁性能,有效地改善了SmFe膜材的饱和磁致伸缩性能,并大幅度提高其低场磁敏特性。
【基金】 福建省科技厅高新技术与火炬计划(99-H-44);福州大学科技发展基金(XKJ(QD)-01／3);福州大学开放测试基金(2005035)资助
- 【会议录名称】 中国真空学会2006年学术会议论文摘要集
- 【会议名称】中国真空学会2006年学术会议
- 【会议时间】2006-10
- 【会议地点】中国陕西西安
- 【分类号】TB383.2
- 【主办单位】中国真空学会