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磁控溅射制备薄膜材料
Films material prepared by magnetron sputtering
【Author】 Yu Ping, Zhang Yong, Zhang Jin- min (Electron science department, Guizhou University, Guiyang 550025)
【机构】 贵州大学电子科学系;
【摘要】 本文利用JGP-560CⅧ型带空气锁的超高真空多功能溅射系统在Si(100)和玻璃基底上沉积了介质薄膜、半导体薄膜、金属薄膜和磁性薄膜,通过实验研究得到各种薄膜较好的镀膜条件;并采用可变入射角椭圆偏振光谱仪对其中一些薄膜的光学性质进行了分析,研究了制备条件对薄膜在可见光范围内光学性质的影响;我们还研究了直流溅射、射频溅射、反应溅射的特点和它们适用范围。
【Abstract】 We produce medium films, semiconductor films, metal films, magnetic films on Si (100) and glass substrates by JGP- 560CⅧ magnetron sputtering system. We find the better conditions for preparing films in these experiments. Then we study their optical properties by alterable angle Ellipsometry and the effect of producing conditions to optical properties at visible region. At the same time we study the characteristic and use of DC-magnetron sputtering, RF-magnetron sputtering and reactive magnetron sputtering.
- 【会议录名称】 中国真空学会2006年学术会议论文摘要集
- 【会议名称】中国真空学会2006年学术会议
- 【会议时间】2006-10
- 【会议地点】中国陕西西安
- 【分类号】TB383.2
- 【主办单位】中国真空学会