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采用热丝辅助MW-ECRCVD法制备高性能a-Si:H薄膜
【作者】 张文理； 陈光华； 何斌； 朱秀红； 马占洁； 丁毅； 刘国汉； 郜志华； 宋雪梅； 邓金祥；
【机构】 北京工业大学材料科学和工程学院； 兰州大学物理科学与技术学院； 北京工业大学应用数理学院；
【摘要】 <正> 氢化非晶硅(a-Si∶H)薄膜是硅基薄膜太阳电池的核心材料,而且作为薄膜场效应晶体管在电子摄像,大面积平板显示器等领域的应用也有很大进展。高光敏性及高稳定型的a-Si∶H薄膜的制备,始终是硅基薄膜太阳电池研究和应用中的关键技术,受到各国相关领域的高度重视。我们采用热丝辅助的MW ECR-CVD系统制备氢化非晶硅(a-Si∶H)薄膜。MW ECR-CVD系统产生的等离子体具有能量转化率高,气体分解率高、激发态产物种类较多和基团浓度高
【基金】 国家重点基础研究发展计划973资助項目(G2000028201-1)的资助
- 【会议录名称】 TFC’05全国薄膜技术学术研讨会论文摘要集
- 【会议名称】TFC’05全国薄膜技术学术研讨会
- 【会议时间】2005-09
- 【会议地点】中国大连
- 【分类号】TB383
- 【主办单位】中国真空学会薄膜专业委员会、大连理工大学三束材料改性国家重点实验室