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一种磁控溅射铁磁材料的靶材结构
【作者】 杨长胜； 程海峰； 唐耿平； 李效东； 楚增勇； 周永江；
【机构】 国防科技大学新型陶瓷纤维及复合材料国防科技重点实验室；
【摘要】 <正> 磁控溅射铁磁性材料是制备高性能磁性薄膜的主要方法。由于铁磁性靶材的磁屏蔽效应,实现磁控溅射较难,这是限制铁磁性材料镀膜的一个重要因素。本文提出了一种磁控溅射铁磁材料的靶材结构,这种结构的靶材有效的解决了铁磁性材料的磁控溅射成膜问题,在工厂实践中成功应用。
- 【会议录名称】 TFC’05全国薄膜技术学术研讨会论文摘要集
- 【会议名称】TFC’05全国薄膜技术学术研讨会
- 【会议时间】2005-09
- 【会议地点】中国大连
- 【分类号】TB43
- 【主办单位】中国真空学会薄膜专业委员会、大连理工大学三束材料改性国家重点实验室