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真空离子镀替代电镀技术研究
【机构】 大连理工大学三束实验室； 大连远东真空技术有限公司；
【摘要】 <正> 电镀技术在工业上应用已久,深入到各个领域,但电镀存在如下问题: ①电镀过程中有二废排放,污染环境、治理投资大、又难根治。②电镀过程中有六价铬,对人体有害。③电镀层中含有镍、镉元素对人体有害,是致癌物质。我们自1980年立项,从事钢铁件、黄铜件、铝合金、锌基合金为基材真空离子镀替代电镀课题研究,至今已有二十余年研究历史,得到国家计委、机械工业部资助,先后召开六次鉴定会,1985年获中国发明专利,专利号85102600.1,1988年荣获国家发明二等奖,2005年申请中国发明专利,申请号:2005.510045678.2。本技术特点:
- 【会议录名称】 TFC’05全国薄膜技术学术研讨会论文摘要集
- 【会议名称】TFC’05全国薄膜技术学术研讨会
- 【会议时间】2005-09
- 【会议地点】中国大连
- 【分类号】TG174.4
- 【主办单位】中国真空学会薄膜专业委员会、大连理工大学三束材料改性国家重点实验室