调制结构对TiN/ZrN纳米多层膜的表面形貌、生长行为及力学性能的影响

【作者】 徐晓明； 辛萍； 王娟； 赵阳； 张庆瑜；

【机构】 大连理工大学三束材料改性国家重点实验室；

【摘要】 <正> 近年来,纳米多层膜的研究有了迅猛的发展,由于其人工可设计的结构及其特殊性能而备受关注。纳米多层膜可广泛应用于耐磨、抗腐蚀涂层以及磁记录、超导等很多方面。本文利用射频反应磁控溅射方法,设计并制备了一系列不同调制周期的TiN/ZrN纳米多层膜。利用原子力显微镜(AFM)、X射线衍射仪(XRD)和纳米压痕仪(Nanoindentation)对多层膜的表面形貌、微观结构和力学性能进行了系统表征。结果表明:调制结构不仅影响多层膜的表面粗糙度,而且导致了多层膜在生长过程中的晶格匹配和晶粒尺寸的变化;界面更多还原