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磁控溅射参数对ZrN/WN纳米多层膜的结构和性能的影响
【机构】 天津师范大学物理与电子信息学院；
【摘要】 <正> 目前,多层薄膜的研究已经引起工业界的广泛关注。因为随着多层膜中个体薄膜厚度趋向于纳米量级,多层膜体系的整体性能会大大改善。当然,多层膜体系性能的改善也与个体薄膜材料的种类和结构有着直接的关系。因此研究不同种类材料构成的纳米多层膜系统合成方法,以及其结构和性能的相互关系具有十分重要的实际应用价值。本研究选择锆和钨的氮化物作为个体层材料,利用超高真空射频磁控溅射技术,制备了从几纳米到几十纳米周期的ZrN/WN纳米多层薄膜,通过XRD,AES和纳米力学测试系统分析了该体系合成中N2/Ar气体比例以及双层周期对多层膜结构与机械性能的影响。研究发现:
【基金】 天津市应用基础研究重点项目(043801011);国家自然科学基金(50472026)
- 【会议录名称】 TFC’05全国薄膜技术学术研讨会论文摘要集
- 【会议名称】TFC’05全国薄膜技术学术研讨会
- 【会议时间】2005-09
- 【会议地点】中国大连
- 【分类号】TB383
- 【主办单位】中国真空学会薄膜专业委员会、大连理工大学三束材料改性国家重点实验室