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基片应力对IBS法制备TbDy-Fe GMF应力及磁伸性能的影响

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【作者】 周白杨邓光华林庆彬

【机构】 福州大学材料科学与工程学院

【摘要】 超磁致伸缩薄膜(GMF)是一种应用于微型机-电系统及传感器中的新型功能材料,它具有很高的机电耦合系数,较高的响应速度以及非接触式驱动等优点,在智能材料方面具有重要的地位。而自20世纪90年代后开始研制的稀土超磁致伸缩薄膜(RE-GMF)更是其中的佼佼者。超磁致伸缩材料薄膜化的研究,促使其实际应用尤其是在智能型微型化器件上的应用成为可能。目前国内外主要采用磁控溅射的方法制备RE-GMF材料,有关RE-GMF的应力及应力对其磁致伸缩性能影响的研究报道较少。

  • 【会议录名称】 中国真空学会第六届全国会员代表大会暨学术会议论文摘要集
  • 【会议名称】中国真空学会第六届全国会员代表大会暨学术会议
  • 【会议时间】2004-11
  • 【会议地点】中国杭州
  • 【分类号】TB383
  • 【主办单位】中国真空学会
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