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以射频磁控溅射法制备的La0.5Ca0.5MnxTi1-xO3薄膜晶结构的研究
【机构】 浙江大学硅材料国家重点实验室；
【摘要】 <正> 最近的研究表明空穴型的锰酸盐显示出极其复杂的铁磁学和电学输运性能,而这种性能则主要是由Mn3+/Mn4+中三、四价离子的替换以及氧的化学计量比所引起的。众所周知薄膜的性能是由氧含量,薄膜厚度,薄膜的组成和薄膜一基底失配度这四个因素所控制的。在本实验中我们采用射频磁控溅射法在Si基板上制备La0.5Ca0.5MnxYi1-xO3（x=0.2-0.6）薄膜,并研究了不同条件对薄膜晶格结构的影响。
- 【会议录名称】 TFC’03全国薄膜技术学术研讨会论文摘要集
- 【会议名称】TFC’03全国薄膜技术学术研讨会
- 【会议时间】2003-09
- 【会议地点】中国浙江宁波
- 【分类号】TB43
- 【主办单位】中国真空学会薄膜专业委员会、宁波市科技局、宁波市科技园、浙江大学、清华大学、北京北仪创新真空技术有限责任公司