【作者】 闫卫平； 席文柱； 邝永变； 杜立群；

【Author】 Yan Weiping~1 Xi Wenzhu~1 Kuang Yongbian~1 Du Liqun~2 ~1(Department of Electronic Engineering, Dalian University of Technology, Dalian 116024, China) ~2(Research Center for MST, Dalian Univ. of Technology, Dalian 116024, China)

【机构】 大连理工大学电子系； 大连理工大学微系统研究中心；

【摘要】 采用磁控溅射方法制备Ni薄膜热敏电阻,其电阻温度系数（TCR）为5.7×10^-3/℃。对Ni电阻薄膜表面和横截面进行了电子探针微分析（EPMA）,得到了Ni薄膜横截面的线分析谱线,并对Ni薄膜表面结构进行了较深入的分析。更多还原

【Abstract】 The Ni thin film thermal resistor is fabricated by magnetron sputtering, and its TCR is 5.7×10^-3/℃. Then, the EPMA of the surface and horizontal cross-section of Ni thin film are obtained, and the analyzing spectrum line of the horizontal cross-section of Ni thin film, which leads to a more profound analysis of the surface of Ni thin film.更多还原