【作者】 王战； 刘庆纲； 匡登峰； 米文博； 白海力； 胡小唐；

【Author】 Wang Zhan Liu Qinggang Kuang Dengfeng Mi Wenbo Bai Haili Hu Xiaotang (State Key Lab uf Precision Measuring Technology & Instrument, Tianjin University, Tianjin 300072, China)(Department of Applied Physics,Tianjin University,Tianjin 300072,China)

【机构】 天津大学精密测试计量技术及仪器国家重点实验室； 天津大学应用物理学院；

【摘要】 在利用Top-Down方式加工纳米电子器件和纳米光电子器件的研究中,纳米薄膜的制作和加工技术是一个关键环节。采用金属Ti-SOS结构的纳米器件,Ti膜的厚度和成膜质量成为影响基于AFM针尖诱导氧化加工Ti纳米氧化线/电路图形结构质量的重要因素。文中叙述了Ti膜的制备和检测方法,给出了纳米Ti膜的制备和在一定环境下对其进行氧化加工的结果。更多还原

【Abstract】 The fabrication technology of nano film is a key in the research of nano electron/photoelectron devices based on the Top-Down machining. For the metal Ti-SOS structure nano device.the thickness and characteristics of Ti film become very important factors in quality control of fabricating the Ti oxide line/circuit figures by AFM tip induced oxidation. In this paper,the preparation/test method of the Ti film and the anodic oxidation fabrication results under certain situation are presented.更多还原