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用于纳米光电子器件加工的纳米金属膜的制作

The Machining of Nano Metal Film Used in Nano Photoelectron Devices Fabrication

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【作者】 王战刘庆纲匡登峰米文博白海力胡小唐

【Author】 Wang Zhan Liu Qinggang Kuang Dengfeng Mi Wenbo Bai Haili Hu Xiaotang (State Key Lab uf Precision Measuring Technology & Instrument, Tianjin University, Tianjin 300072, China)(Department of Applied Physics,Tianjin University,Tianjin 300072,China)

【机构】 天津大学精密测试计量技术及仪器国家重点实验室天津大学应用物理学院

【摘要】 在利用Top-Down方式加工纳米电子器件和纳米光电子器件的研究中,纳米薄膜的制作和加工技术是一个关键环节。采用金属Ti-SOS结构的纳米器件,Ti膜的厚度和成膜质量成为影响基于AFM针尖诱导氧化加工Ti纳米氧化线/电路图形结构质量的重要因素。文中叙述了Ti膜的制备和检测方法,给出了纳米Ti膜的制备和在一定环境下对其进行氧化加工的结果。

【Abstract】 The fabrication technology of nano film is a key in the research of nano electron/photoelectron devices based on the Top-Down machining. For the metal Ti-SOS structure nano device.the thickness and characteristics of Ti film become very important factors in quality control of fabricating the Ti oxide line/circuit figures by AFM tip induced oxidation. In this paper,the preparation/test method of the Ti film and the anodic oxidation fabrication results under certain situation are presented.

【基金】 教育部天津大学南开大学共建项目;天津市自然基金项目(013602111)
  • 【会议录名称】 中国仪器仪表学会第五届青年学术会议论文集
  • 【会议名称】中国仪器仪表学会第五届青年学术会议
  • 【会议时间】2003
  • 【分类号】TN304.05
  • 【主办单位】中国仪器仪表学会
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