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衬底温度对磁性Fe-N薄膜生长机制影响的研究
The Universality Classes in Growth of γ-Fe4N Thin Films Deposited by D.C. Magnetron Sputtering
【作者】 王欣； 龙北红； 田宏伟； 于陕升； 郑伟涛； 于文学；
【Author】 WANG Xin, LONG Bei-Hong, TIAN Hong-Wei, YU Shan-Sheng, ZHENG Wei-Tao, Yu Wen-Xue Department of Materials, Jilin University, Changchun 130023, P.R. China
【机构】 吉林大学材料科学与工程学院；
【摘要】 采用直流磁控溅射方法,以N2/Ar作为放电气体,在玻璃衬底上（衬底分别处于室温和250℃温度）沉积了Fe-N薄膜。采用X光电子能谱（XPS）、X射线衍射（XRD）、超导量子干涉（SQUIDS）分析了薄膜的成分、结构及磁性性能。结果表明,当氮气流量比为10%（N2/N2+Ar）时,衬底温度对Fe-N薄膜的成分、结构及磁性性能有较大的影响。采用原子力显微镜（AFM）和掠入射X射线衍射（GIXD）获得了薄膜表面形貌信息,结合动力学标度方法研究了薄膜的生长机制同衬底温度的关系。结果表明,采用磁控溅射方法制备的Fe-N薄膜动力学标度指数之间满足α+α/β=2的关系,两种衬底温度条件下得到的薄膜表面都存在一定程度的空位或孔洞,粒子有悬臂生长现象。直流磁控溅射条件下沉积的Fe-N薄膜属于KPZ生长普适类。
- 【会议录名称】 第四届全国磁性薄膜与纳米磁学会议论文集
- 【会议名称】第四届全国磁性薄膜与纳米磁学会议
- 【会议时间】2004-05
- 【会议地点】中国天津/承德
- 【分类号】O484
- 【主办单位】中国物理学会磁学分会、中国电子学会应用磁学分会