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[FePt/AIN)_n多层膜的结构和磁学性能
【机构】 山西师范大学化学与材料科学学院；
【摘要】 采用磁控溅射制备了FePt(50nm)和[FePt(2,3,5nm)/AlN(1nm)]_n膜,之后在550℃退火30min,研究了周期数(n)和AlN含量对[FePt/AlN]_n系列多层膜结构及磁学性能的影响。结果表明,多层膜的矫顽力在n=8时出现较大值;周期数的增大会引起晶粒的长大;AlN的加入不但可以抑制FePt粒子的长大,而且还能有效地降低了晶粒间交换耦合作用,并且AlN含量越大,晶粒间交换耦合作用的程度越弱。
- 【会议录名称】 第四届全国磁性薄膜与纳米磁学会议论文集
- 【会议名称】第四届全国磁性薄膜与纳米磁学会议
- 【会议时间】2004-05
- 【会议地点】中国天津/承德
- 【分类号】O484
- 【主办单位】中国物理学会磁学分会、中国电子学会应用磁学分会