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溅射MnBiAl薄膜的结构相变
【机构】 河北工业大学材料学院； 中科院物理所国家磁学重点实验室；
【摘要】 本文采用磁控溅射法制备MnBiAl薄膜,研究了其成分及沉积周期对MnBiAl结构的影响。研究结果表明在Al含量一定的情况下,只有当Mn:Bi原子比接近于1时,才能获得结构完整的NiAs型六角结构。在总厚度不变的前提下,单周期的样品在真空退火后具有比双周期样品更完整的NiAs型六角晶体结构取向性。我们发现在室温至400℃的升温过程中,溅射MnBi0.93Al0.18薄膜的品格只发生了膨胀,而不存在从低温相至高温相的转变。
【基金】 国家自然基金(批准号59971062)
- 【会议录名称】 第四届全国磁性薄膜与纳米磁学会议论文集
- 【会议名称】第四届全国磁性薄膜与纳米磁学会议
- 【会议时间】2004-05
- 【会议地点】中国天津/承德
- 【分类号】O484
- 【主办单位】中国物理学会磁学分会、中国电子学会应用磁学分会