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大口径均匀软X射线多层膜制备方法研究

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【作者】 金春水； 马月英； 裴舒； 林强； 曹健林；

【机构】 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所；

【摘要】 本文介绍了基于速度调整技术的均匀软X射线多层膜制备方法,并利用改进后的磁控溅射镀膜装置,在φ150mm硅片上进行了13um Mo/Si多均匀层膜。

【关键词】 软X射线多层膜； 磁控溅射； 均匀性；
  • 【会议录名称】 第六届全国激光科学技术青年学术交流会论文集
  • 【会议名称】第六届全国激光科学技术青年学术交流会
  • 【会议时间】2001-10
  • 【会议地点】中国贵阳
  • 【分类号】TN304.055
  • 【主办单位】中国物理学会
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