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三种中频对靶磁控溅射类金刚石膜的性能比较
【机构】 中国地质大学工程技术学院表面工程研究所； 北京实力源科技有限公司；
【摘要】 利用带有SP20MB新型电源(具有三种可选择工作模式(连续DC(直流)、频率为40-kHz的脉冲DC和脉冲AC)的非平衡磁控溅射镀系统合成了一系列含铬无氢DLC(类金刚石)薄膜,考察了磁控靶电压波形对合成薄膜性能的影响。以扫描电子显微镜、纳米硬度计、划痕试验机、球-盘试验机等测试方法考察了包括表面形貌、显微硬度、结合力和摩擦磨损的综合性能。对比结果表明: 磁控靶电压波形对脉冲磁控溅射的等离子体特性变化具有重要影响,并因此影响合成薄膜的性能; 其中反向电压(即空位电压)的幅值和持续时间是关键因素。在脉冲DC磁控溅射模式下DLC膜的综合性能要比在脉冲AC和连续DC磁控溅射模式中合成的更优越。
【关键词】 含铬DLC膜；
脉冲DC和AC中频对靶磁控溅射；
性能；
【基金】 国家自然科学基金项目资助(50475057);中国地质大学科学钻探国家专业实验室开放基金项目(200501)
- 【会议录名称】 第六届全国表面工程学术会议暨首届青年表面工程学术论坛论文集
- 【会议名称】第六届全国表面工程学术会议暨首届青年表面工程学术论坛
- 【会议时间】2006-08
- 【会议地点】中国甘肃兰州
- 【分类号】TB383.2
- 【主办单位】中国机械工程学会表面工程分会