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磁控溅射氮化硅薄膜的特性及其在太阳电池上的应用
【机构】 北京市太阳能研究所；
【摘要】 <正>常规单晶硅侈晶硅太阳电池占据着当今光伏市场80%以上的份额.如何使其效率从目前水平(12-14%)进一步提高是一个迫切的课题.要进一步提高效率,很重要的研究方向就是减反射膜及表面钝化作用的改进.氮化硅的折射率为19-20,在各种单层减反射膜中,与达到最佳减反射效果的折射率最相符:同时,采用等离子体化学气相沉积
- 【会议录名称】 中国太阳能学会2001年学术会议论文摘要集
- 【会议名称】中国太阳能学会2001年学术会议
- 【会议时间】2001-10
- 【会议地点】中国青岛
- 【分类号】TM914
- 【主办单位】中国太阳能学会