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溅射沉积光伏材料-掺氮碳薄膜
【作者】 丁正明； 周之斌； 崔容强； 胡宏勋； 孙铁囤； 贺振宏；
【机构】 上海交通大学；
【摘要】 本文介绍了离子束溅射,石墨靶,沉积掺氮碳薄膜的设备及工艺。对薄膜沉积过程作了讨论,采用 XPS技术对薄膜成份、原子间和掺杂原子的键以及结合能作了研究,在( 111)单晶硅片上沉积掺氮碳薄膜,构成C/Si异质结,在100mw/cm~2光照下,开路电压达200mv。
- 【会议录名称】 中国第六届光伏会议论文集
- 【会议名称】中国第六届光伏会议
- 【会议时间】2000-10
- 【会议地点】中国昆明
- 【分类号】TM914
- 【主办单位】中国太阳能学会光伏专业委员会