【作者】 刘全； 吴建宏； 陈刚； 方玲玲；

【机构】 苏州大学信息光学工程研究所；

【摘要】 本文利用严格耦合波理论对用于光纤光栅制作的相位掩模的衍射特性进行了深入的研究。研究发现,为了使零级衍射效率小于5％,且正负一级的衍射效率大于35％,相位掩模的刻槽深度必须控制在230—280nm,占宽比必须控制在 0．48～0．65。同时与标量衍射理论的结果进行了分析对比。这些都为相位掩模的实际制作提供了有意义的结果。更多还原

【Abstract】 The diffraction characteristics of the phase mask for UV-written fiber grating is investigated using rigorous coupled-wave theory. The results shows: the groove depth and duty cycle of phase mask must be controlled within the range of 230 - 280 nm and 0. 48 - 0. 65 respectively in order to make the zero order diffraction efficiency less than 5% and ± 1 diffraction efficiency more than 35%. Meantime, conclusions of scalar diffraction theory and rigorous coupled-wave theory are compared. Some useful information for practical fabrication of the phase mask is given.更多还原