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偏振干涉型interleaver公差分析的优化设计
【机构】 上海大学通信与信息工程学院；
【摘要】 本文针对双折射晶体制备的C波段100GHz偏振干涉型interleaver,提出了公差分析的优化设计方法,并给出了仿真结果。在此种器件加工过程中,对晶体的长度以及方位角都要给定一个合理的公差范围。这对保证器件性能和降低加工成本具有重大意义。基于这个要求,我们采用了蒙特卡洛(Monte Carlo)方法编制了一整套计算机程序,去仿真在晶体加工过程中,尺寸公差对器件性能的影响。采用该程序,在保证器件性能的前提下,通过仿真可以找出最佳晶体长度和方位角的公差范围,实现器件最优化设计。仿真结果表明,当晶体长度和方位角公差为1.0μm和0.5度时可实现优化设计。
【关键词】 双折射晶体；
偏振干涉型interleaver；
蒙特卡洛方法；
公差分析；
【基金】 上海市重点学科建设项目(2001-44)
- 【会议录名称】 第三届中国光通信技术与市场研讨会论文集
- 【会议名称】第三届中国光通信技术与市场研讨会
- 【会议时间】2003-09
- 【会议地点】中国湖北宜昌
- 【分类号】TN929.11
- 【主办单位】中国通信学会光通信委员会、中国电子学会通信学分会、中国光学学会纤维光学与集成光学委员会