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相移光纤光栅的两种制作方法的比较研究
【机构】 高功率激光物理国家实验室；
【摘要】 制作相移光纤光栅的方法有许多种,但用的最多的还是两次曝光法和遮挡法.本文通过分析两种方法所产生的相移的物理机制,发现在我们对光纤的反射率（或者光纤光栅的调制深度）有一定要求的情况下,由于用两次曝光法主要是通过调节相移区的光致折射率Δn2的变化来得到我们所需要的相移量,而遮挡法主要是通过调整相移区的长度来得到我们所需要的相移量,因而两次曝光法比遮挡法更容易控制一些.
【基金】 国家高技术863-416课题
- 【会议录名称】 全国第十次光纤通信暨第十一届集成光学学术会议（OFCIO’2001）论文集
- 【会议名称】全国第十次光纤通信暨第十一届集成光学学术会议（OFCIO’2001）
- 【会议时间】2001-10
- 【会议地点】中国上海
- 【分类号】TN253
- 【主办单位】中国电子学会通信学分会、中国通信学会光通信专业委员会、中国光学学会纤维光学与集成光学专业委员会