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Aldol反应中TBS保护基迁移现象
【机构】 山东省临沂市监西七路鲁南制药厂； 兰州大学化学化工学院应用有机化学国家重点实验室；
【摘要】 <正> 有机合成中,硅保护基(TBSCl,TESCl,TBDPSCl,TIPSCl,TMSCl等)是一种应用极为普遍的羟基官能团保护基.但是,该类保护基经常发生迁移(重排)现象,从而使得反应(或产物)较为复杂.我们在研究过程中首次发现a-硅氧酮2与各类醛1的Aldol反应中硅保护基(TBSCl,TBDPSCl等)也能发生迁移,结果如Scheme 1所示.
【基金】 国家自然科学基金(No.20072012);高校博士学科专项基金(No.20010730001)资助项目
- 【会议录名称】 第三届全国有机化学学术会议论文集（上册）
- 【会议名称】第三届全国有机化学学术会议
- 【会议时间】2004-08
- 【会议地点】中国兰州
- 【分类号】O621.25
- 【主办单位】中国化学会