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碳、硅团簇离子辐照聚碳酸酯产生发色团及损伤的研究

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【作者】 赵子强戴俊峰刘英民陈燕

【机构】 北京大学重离子物理研究所

【摘要】 利用MeV碳团簇及硅团簇辐照聚碳酸酯薄膜,用光吸收谱分析400nm处产生发色团数目与团簇大小的关系,发现随团簇个数的增加发色团数目非线性增加。用ATR 谱分析团簇区域内团簇离子造成聚碳酸酯的损伤,C3+离子对C=O键的损伤截面为 5.56 nm2。而C1+离子在误差范围内损伤截面为1.69 nm2。团簇离子的集体作用的效应要大于3个单原子离子分别作用的效应。

【关键词】 团簇离子聚碳酸酯损伤截面
【基金】 自然科学基金项目No.10475005资助
  • 【会议录名称】 2006全国荷电粒子源、粒子束学术会议论文集
  • 【会议名称】2006全国荷电粒子源、粒子束学术会议
  • 【会议时间】2006-10
  • 【会议地点】中国湖北武汉
  • 【分类号】TB383.2
  • 【主办单位】中国电工技术学会电子束离子束专业委员会、中国电子学会焊接专业委员会、粒子加速器学会离子源专业组、粒子加速器学会高压专业组、北京电机工程学会加速器专业委员会
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