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全方位离子注入与沉积工业机研制

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【作者】 汤宝寅王浪平王小峰

【机构】 哈尔滨工业大学现代焊接生产技术国家重点实验室

【摘要】 全方位离子注入与沉积(PⅢD)技术发展到现在,已经逐步走向工业化应用。本文讨论了全方位离子注入与沉积工业机应该具备的功能,介绍了我课题组最近研制了一台全方位离子注入与沉积设备的结构和实施效果,其脉冲阴极弧等离子体源沉积速率达到2.878 (A|。)/s,IGBT固体开关调制器输出电压达到 10kV,能够一次处理多个工业零件。

  • 【会议录名称】 2006全国荷电粒子源、粒子束学术会议论文集
  • 【会议名称】2006全国荷电粒子源、粒子束学术会议
  • 【会议时间】2006-10
  • 【会议地点】中国湖北武汉
  • 【分类号】TG174
  • 【主办单位】中国电工技术学会电子束离子束专业委员会、中国电子学会焊接专业委员会、粒子加速器学会离子源专业组、粒子加速器学会高压专业组、北京电机工程学会加速器专业委员会
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