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电弧离子镀沉积富碳的TiC膜层的研究
【作者】 宋贵宏； 邹友生； 陈立佳； 李锋； 王启民； 宫骏； 孙超；
【机构】 沈阳工业大学材料学院； 中国科学院金属研究所材料表面工程研究部；
【摘要】 制备TiC膜层时,在含碳气体含量较高情况下,沉积膜层中C和Ti的原子数量比会超过TiC晶体的理想配比,这表明,沉积膜中除了TiC相外,还有富碳相。这些富余碳的存在方式(Sp3或sp2杂化态),将对沉积膜的结构和性能产生很大的影响。
- 【会议录名称】 2004年中国材料研讨会论文摘要集
- 【会议名称】2004年中国材料研讨会
- 【会议时间】2004-11
- 【会议地点】中国北京
- 【分类号】TG174
- 【主办单位】中国材料研究学会