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(CoPt/Ag)_n纳米复合膜的结构与磁性
【作者】 薛双喜； 王浩； 杨辅军； 王君安； 曹歆； WY Cheung； SP Wong；
【机构】 湖北大学物理学与电子技术电学院； 香港中文大学电子工程系；
【摘要】 采用直流磁控溅射的方法制备了一系列(CoPt/Ag)n多层膜,在不同温度下进行了退火处理,并对其结构和磁性做了初步的表征,研究了Ag的含量以及薄膜中每一单元厚度与总厚度对退火后薄膜的结构以及磁学性能的影响。结果表明,膜厚较薄时(δ≤6nm)有利于薄膜沿(001)取向生长,Ag的加入不但抑制CoPt颗粒的长大还可以诱导薄膜的(001)取向,使退火后的薄膜在垂直于膜面方向上的矫顽力大大增强。制备的薄膜经600℃退火后其XRD图已经显示了明显的(001)取向,垂直于膜面方向上的矫顽力为6.4 kOe,并且磁滞回线具有很好的矩形度,剩磁比(S)为0.92。通过进一步优化薄膜中非磁性基质Ag的含量以及退火工艺,有望在较低退火温度的条件下制备出颗粒尺寸小而且均匀,磁化易轴方向垂直于膜面方向,矫顽力足够大的具有符合超高密度垂直磁记录材料要求的CoPt/Ag纳米复合膜。
【关键词】 CoPt/Ag纳米复合膜；
垂直磁记录；
【基金】 国家自然科学基金项目(批准号No.50371056);湖北省与湖北大学优秀创新研究团队项目;湖北省教育厅重大项目(2004Z0003)的部分资助。
- 【会议录名称】 2004年中国材料研讨会论文摘要集
- 【会议名称】2004年中国材料研讨会
- 【会议时间】2004-11
- 【会议地点】中国北京
- 【分类号】TB383
- 【主办单位】中国材料研究学会