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FePt基纳米复合膜的结构与磁性
【作者】 王浩； 王君安； 曹歆； 薛双喜； 杨辅军； MF Chiah； N Ke； WY Cheung； SPWong；
【机构】 湖北大学物理学与电子技术学院； 香港中文大学电子工程系；
【摘要】 基于磁过滤脉冲真空电弧沉积(PFVAD)技术,采用共沉积与交替沉积多层膜两种不同工艺并结合退火制备了一系列FePt纳米复合膜。采用共沉积方法制备的FePt-C薄膜能够将Ll0相变温度降到500℃左右,并且颗粒尺寸为12.5nm,矫顽力(HC)达到了7.5 kOe,饱和磁化强度(Ms)为700emu/cm3。对采用多层膜方法制备的FePt薄膜,研究了C,Cu,Ag等掺杂对薄膜Ll0相变以及磁性能的影响。结果表明:通过Cu掺杂能够将相交温度降低到300℃,Cu最佳掺杂量为12 at.%。C和Ag掺杂在薄膜从无序到有序的结构转变中表现出与Cu掺杂不同的机制,而且C比Ag对薄膜相变的影响更大,在350℃退火时,C掺杂已能够有效促进薄膜的相变。
【基金】 国家自然科学基金项目(批准号No.50371056);湖北省和湖北大学优秀创新研究团队项目;湖北省教育厅重大科研项目;香港研究资助局项目(No.CUHK4216/00E)的部分资助。
- 【会议录名称】 2004年中国材料研讨会论文摘要集
- 【会议名称】2004年中国材料研讨会
- 【会议时间】2004-11
- 【会议地点】中国北京
- 【分类号】TB383
- 【主办单位】中国材料研究学会