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氩离子注入单晶Si表面微观摩擦磨损行为研究
【机构】 中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室； 河南大学特种功能材料重点实验室；
【摘要】 利用氩离子注入技术改善单晶Si表面的摩擦磨损性能,并用扫描电子显微镜研究了离子注入前、后,Si单晶在线性加载条件下的磨损机理。研究结果表明,经过1×1017Ar+/cm2剂量的氩离子注入后,单晶Si表面的抗磨损性能有了明显的提高。氩粒子的注入改善了单晶Si表面的韧性,提高了摩擦磨损性能。
- 【会议录名称】 纳米材料和技术应用进展——全国第三届纳米材料和技术应用会议论文集（下卷）
- 【会议名称】全国第三届纳米材料和技术应用会议
- 【会议时间】2003-09
- 【会议地点】中国南京
- 【分类号】TN304
- 【主办单位】中国材料研究学会、江苏省科学技术协会