沉积衬底温度对PtSi/Si异质薄膜生长及表面形貌的影响

【作者】 殷景华； 蔡伟； 李美成； 郑玉峰； 王中； 王培林； 赵连城；

【机构】 哈尔滨理工大学应用科学学院； 哈尔滨工业大学材料科学与工程学院；

【摘要】 利用X射线光电子谱（XPS）、原子力显微镜（AFM）及X射线衍射（XRD）等测试技术研究了Pt膜沉积到p-Si衬底上,衬底温度对PtSi/Si异质薄膜生长的影响。结果表明,衬底不加热,薄膜表面粗糙且存在未反应Pt原子和PtSi,Pt₂Si混合相层;衬底加热到300℃,退火后,形成单一、均匀、连续、平坦的PtSi薄膜。因此,衬底加热有利于提高PtSi薄膜质量。更多还原