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Pb(Zr0.53Ti(0.47))O3/GaN结构的制备和电学性质研究

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【作者】 毕朝霞张荣李卫平殷江沈波周玉刚陈鹏陈志忠顾书林施毅刘治国郑有炓

【机构】 南京大学物理系和固体微结构国家重点实验室

【摘要】 以铁电体Pb(Zr0.53Ti0.47)O3(PZT)取代传统绝缘栅氧化物制备了GaN基金属-绝缘层-半导体(MIS)结构。由于铁电体具有较强的极化电场和高的介电常数,GaN基金属-铁电-半导体(MFS)结构的C-V特性和其他GaN基MIS结构相比较得到了显著的提高。GaN MFS结构中GaN激活层达到反型时的偏压小于5V,这和硅基电子器件和集成电路的工作电压相符合。而且GaN层的表面载流子浓度比背景载流子浓度下降了一个量级,因此GaN基MFS结构对于GaN基场效应晶体管(FETs)的实际应用具有重要的意义。

【关键词】 GaNMFSPZTC-VP-V
【基金】 国家自然科学基金资助课题(69976014,69636010,69806006,69987001);863高技术研究计划(863-307-12-3(05),863-715-001-0220,863-715-011-0031)。
  • 【会议录名称】 2000年材料科学与工程新进展(下)——2000年中国材料研讨会论文集
  • 【会议名称】2000年中国材料研讨会
  • 【会议时间】2000
  • 【分类号】TN304
  • 【主办单位】中国材料研究学会
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