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纳米硅薄膜的掺杂及其应用研究进展

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【作者】 邓加军； 陈强；

【机构】 北京航空航天大学理学院；

【摘要】 本文介绍了纳米硅薄膜的掺杂及其应用研究进展,包括制备技术、生长机制、微结构、掺杂特性、电输运、光学特性以及应用等几个方面。这些研究进展说明,纳米硅薄膜是一种具有广泛应用前景的半导体光电材料,预期在将来有更大的发展。

【关键词】 纳米硅； 掺杂； 电输运；
  • 【会议录名称】 2000年材料科学与工程新进展（上）——2000年中国材料研讨会论文集
  • 【会议名称】2000年中国材料研讨会
  • 【会议时间】2000
  • 【分类号】TB383
  • 【主办单位】中国材料研究学会
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