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PVD技术的新进展

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【作者】 李健韦习成

【机构】 武汉材料保护研究所

【摘要】 在详实资料的基础上对物理气相沉积技术的应用对象不断扩展、处理时基体低温进一步降低、新型镀层、复合镀层、多层镀层大量出现,以及通过制备工艺提高摩擦学性能的最新发展趋势进行了分析。

【关键词】 PVD技术薄膜摩擦磨损
  • 【会议录名称】 ’99摩擦学表面工程学术会议论文集
  • 【会议名称】’99摩擦学表面工程学术会议
  • 【会议时间】1999-08
  • 【会议地点】中国湖北武汉
  • 【分类号】TG174
  • 【主办单位】中国机械工程学会摩擦学分会磨损及表面技术专业委员会、武汉材料保护研究所
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