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纯Ni和Ni-5at．%W基带织构的EBSD研究
【机构】 西北有色金属研究院；
【摘要】 <正>双轴织构 Ni 基带是生长高临界电流密度 YBCO 超导薄膜最好的基带,Ni 基带中的织构通过外延生长遗传到 YBCO 薄膜中,从而使薄膜具有高电流传输能力。但由于纯 Ni 强度低且具有铁磁性,在传输交流电时会产生交流损耗,为此人们开发了 Ni-W 合金基带。本文采用 EBSD 对纯 Ni 和 Ni-5at．%W 基带的织构进行比较研究。
【基金】 国家自然科学基金重大项目(No．50432050)．
- 【会议录名称】 2006年全国电子显微学会议论文集
- 【会议名称】2006年全国电子显微学会议
- 【会议时间】2006-08
- 【会议地点】中国辽宁沈阳
- 【分类号】TM26
- 【主办单位】中国电子显微镜学会