Al-Cu纳米薄膜时效处理后沉淀相显微组织的TEM表征

【作者】 徐山清； 王晓东； 戎咏华； 徐祖耀；

【机构】 上海交通大学材料科学与工程学院；

【摘要】 <正>传统块体 Al-Cu 合金过饱和固溶体在进行适当工艺条件下的时效处理时,将会出现过饱和固溶体→G．P．（Ⅰ）区→G．P．（Ⅱ）区（或θ″）→θ′→稳定的θ相的沉淀序列。但最近的文献报道,纳米 Al-Cu 合金在退火过程中将不会析出中间亚稳相,稳定的θ （Al₂Cu）相将直接从母相晶粒中析出,且主要分布在晶界或三叉晶界处。α（Al）为面向立方晶体（a= 0．404nm）,θ（Al₂Cu）为复杂四方结构(a=0．607 nm,更多还原