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Mo/SiO2软X射线多层膜的结构研究
【机构】 北京科技大学材料物理系； 中国科学院高能物理研究所同步辐射室；
【摘要】 本文用磁控溅射方法制备了几种 Mo/SiO2多层膜。在北京同步辐射装置（BSRF）的衍射站上测量了其低角 X 射线衍射（XRD）谱,并利用基于光学动力学理论的递推公式对低角 X 射线衍射谱进行了拟合,定量分析了膜层的周期结构和界面粗糙度以及界面粗糙度与层数、层厚的关系。同时用高分辨电子显微镜（HREM）对一样品的截面进行了观察。
【基金】 国家自然科学基金的资助
- 【会议录名称】 1996年中国青年学者物理学讨论会——薄膜材料与物理论文集
- 【会议名称】1996年中国青年学者物理学讨论会
- 【会议时间】1996-06
- 【会议地点】中国安徽合肥
- 【分类号】TB43;O484.1
- 【主办单位】中国科学院、国家自然科学基金委员会