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磁控溅射a-Si/Ni多层膜的研究

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【作者】 张硕； 虎志明； 吴兴惠； 李燕卿； 王正昌；

【机构】 云南大学物理系； 云南民族学院物理系；

【摘要】 利用超高真空多靶磁控溅射设备制备 a-Si/Ni 多层膜,经 XPS 和 Raman 谱的分析研究表明：在所取工艺参数条件下制备的 a-Si/Ni 多层膜为周期性的成份调制结构。以特殊的表面电极结构。讨论了 a-Si/Ni 多层膜的横向光电效应与周期结构参数的关系。

【关键词】 a-Si/Ni 多层膜； Raman 光谱； XPS 能谱； 横向光电效应；
  • 【会议录名称】 1996年中国青年学者物理学讨论会——薄膜材料与物理论文集
  • 【会议名称】1996年中国青年学者物理学讨论会
  • 【会议时间】1996-06
  • 【会议地点】中国安徽合肥
  • 【分类号】TB43
  • 【主办单位】中国科学院、国家自然科学基金委员会
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