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电子束诱导金属硅化物的研究——扫描电子束对材料改性研究之一

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【作者】 林世昌张燕生张国炳王阳元陈坚赵勇

【机构】 中国科学院电子学研究所北京大学计算机系北京大学技术物理系

【摘要】 本文讨论了Nb—Si,Ta—Si以及ey Co—Si体系的扫描电子束瞬态诱导技术。在广泛试验的基础上对样品进行了表面电阻测量、X射线衍射分析和卢瑟福背散射分析。表明扫描电子束对诱导形成硅化物具有显著的优点,形成机制是“扩散控制”型。

  • 【会议录名称】 第七届全国电加工学术年会论文集
  • 【会议名称】第七届全国电加工学术年会
  • 【会议时间】1993-10
  • 【会议地点】中国江苏苏州
  • 【分类号】TN304
  • 【主办单位】中国机械工程学会电加工学会
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