四方多晶氧化锆的二氧化硅表面处理工艺初探

【作者】 李莹； 张富强； 郑元俐； 魏斌； 郑珊； 靳喜海； 孙静； 高濓；

【机构】 上海第二医科大学附属第九人民医院； 中国科学院上海硅酸盐研究所；

【摘要】 目的:通过探索氧化钇稳定的四方多晶氧化锆(yttria stabilize tetragonal zirconia polycrystal,Y—TZP)的二氧化硅(silica,SiO2)表面处理工艺,提高Y-TZP与牙科树脂的结合力。方法:将20个Y—TZP试样分成三组,(A组)空白对照组,(B组)砂石研磨组,(C组)喷砂组。用溶胶-凝胶法在B、C组试样表面制备SiO2薄膜,并分别用不同10℃/min和1℃/min两种升温速率烧结薄膜。用光电子能谱仪(x-ray photoelectronspectroscopy,XPS)和扫描电镜(scanning electron microscope,SEM)表征薄膜;并通过剪切试验比较有薄膜组、无薄膜组与牙科树脂的黏结强度。结果:XPS谱图显示,薄膜组存在硅峰谱;SEM见,喷砂预处理和缓慢升温组的薄膜最致密均匀;剪切试验中无薄膜组的黏结强度为1.08±0.46MPa,有薄膜组为2.84±1.13Mpa,薄膜组与对照组的黏结强度差异有显著性(P<0.05)。结论:可采用溶胶-凝胶法在Y-TZP上制备SiO2薄膜;喷砂预处理和缓慢升温的热处理过程有利于薄膜的附着和致密;经SiO2表面处理后的Y-TZP可提高与牙科树脂的黏结力。更多还原